特許
J-GLOBAL ID：201103058577923339

放射線画像変換パネル及びその製造方法

発明者：
柳多 貴文

柳多 貴文 について

, 
岸波 勝也

岸波 勝也 について


出願人/特許権者：
コニカミノルタホールディングス株式会社

コニカミノルタホールディングス株式会社 について


公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-050106
公開番号（公開出願番号）：特開2002-250797
特許番号：特許第4288860号
出願日： 2001年02月26日
公開日（公表日）： 2002年09月06日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 支持体上に、高分子樹脂と架橋剤を含有する下引き層と高分子樹脂中に分散された輝尽性蛍光体を含有する輝尽性蛍光体層をこの順に積層してなる放射線画像変換パネルにおいて、該輝尽性蛍光体層が含有する高分子樹脂の平均ガラス転移点温度(Tg)が25°C未満で、かつ該下引き層が含有する高分子樹脂の平均ガラス転移点温度(Tg)が25°C以上であり、該下引き層を形成した後、40〜150°Cで2〜100時間の熱処理を施し、次いで該下引き層上に輝尽性蛍光体層を形成することを特徴とする放射線画像変換パネル。
IPC (4件)：
G21K 4/00 ( 200 6.01) ,  C09K 11/61 ( 200 6.01) ,  G01T 1/00 ( 200 6.01) ,  G03B 42/02 ( 200 6.01)
FI (5件)：
G21K 4/00 L ,  C09K 11/61 CPF ,  G01T 1/00 B ,  G03B 42/02 B ,  G03B 42/02 ZAB B
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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