特許

J-GLOBAL ID：201103058958220628

マルチビーム露光装置

発明者： 砂川 寛
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (2件)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-120385
公開番号（公開出願番号）：特開2001-305449
特許番号：特許第4330762号
出願日： 2000年04月21日
公開日（公表日）： 2001年10月31日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 記録材料を主走査方向に移動させる主走査手段と、 前記主走査方向および副走査方向に対して傾斜した配列方向に配置されて前記記録材料の副走査方向に対して所定間隔を空けた所定数のマルチビームを射出して前記主走査手段により主走査方向に移動される記録材料を主走査する光源と、 前記光源から射出される所定数のマルチビームを、一括で前記配列方向または前記配列方向に対して直交する方向に偏向させて前記それぞれのマルチビームを前記副走査方向の所定間隔内で前記副走査方向に隣り合う画素位置に移動させることを所定回数行った後、前記偏向とは逆方向に偏向させてはじめの画素位置の前記主走査方向に隣り合う画素位置および前記副走査方向の同一画素位置に移動させることを繰り返す偏向手段とを有し、 前記所定数のマルチビームのビーム間の前記副走査方向の所定間隔が、前記記録材料における前記副走査方向の画素ピッチをp、nを正の整数として、(前記所定回数+1)×n×pであることを特徴とするマルチビーム露光装置。

IPC (10件)：

G02B 26/10 ( 200 6.01) ,  B41J 2/44 ( 200 6.01) ,  B41J 2/32 ( 200 6.01) ,  G02F 1/11 ( 200 6.01) ,  G02F 1/33 ( 200 6.01) ,  G03B 27/32 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  G03F 7/24 ( 200 6.01) ,  H01S 5/40 ( 200 6.01) ,  H04N 1/113 ( 200 6.01)

FI (11件)：

G02B 26/10 B ,  G02B 26/10 G ,  B41J 3/00 D ,  B41J 3/20 109 A ,  G02F 1/11 502 ,  G02F 1/33 ,  G03B 27/32 Z ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 7/24 G ,  H01S 5/40 ,  H04N 1/04 104 Z