特許

J-GLOBAL ID：201103058979842343

配管接続構造

発明者： 中村 憲一 ,  安食 直二 ,  前原 拓章
出願人/特許権者： 日立アプライアンス株式会社
代理人 (2件)： 井上 学 ,  戸田 裕二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-169688
公開番号（公開出願番号）：特開2011-021733
出願日： 2009年07月21日
公開日（公表日）： 2011年02月03日
要約：

【課題】オリフィスを有する配管の接続にろう付けを使用する配管の接続構造において、オリフィスの流路穴がろうで詰まるのを防止する。【解決手段】流体を移送する接続配管2を被接続配管1或いは分流器にろう付けにより接続する。接続配管を被接続配管或いは分流器接続する部分には、接続配管の流路径よりも小さい流路径の流路穴(細径流路部)3aをもつオリフィス3を備え、このオリフィスに、前記流路穴を前記接続配管側に延ばすように凸形状部3bを形成している。この凸形状部の外周面と前記接続配管内周面との間には周方向の隙間aが形成され、ろう付け時の余剰ろう材はこの隙間に溜められる構成としている。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

流体を移送する接続配管を被接続配管或いは分流器にろう付けにより接続する部分の配管接続構造において、 前記接続配管を前記被接続配管或いは分流器に接続する部分の流路に、前記接続配管の流路径よりも小さい流路径の流路穴(細径流路部)をもつオリフィス部を備え、このオリフィス部に、前記流路穴を前記接続配管側に延ばすように凸形状部を形成し、この凸形状部の外周面と前記接続配管内周面との間に周方向の隙間を形成していることを特徴とする配管接続構造。

IPC (2件)：

F16L 55/00 ,  F25B 41/00

FI (3件)：

F16L55/00 H ,  F25B41/00 H ,  F25B41/00 C

Fターム (2件)：

3H025BA03 ,  3H025BB02

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 管路部品の固定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-144642   出願人：大明金属工業株式会社
• 冷媒分配器とその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-268053   出願人：三菱電機株式会社
• 冷凍装置の冷媒分配装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-128425   出願人：ホシザキ電機株式会社