特許
J-GLOBAL ID:201103059129709470
蛍光レジスト組成物および、その用途
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (2件):
酒井 一
, 蔵合 正博
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-200307
公開番号(公開出願番号):特開2011-051153
出願日: 2009年08月31日
公開日(公表日): 2011年03月17日
要約:
【課題】熱ナノインプリント成型前の初期膜厚、さらには熱ナノインプリント成型物の残膜測定や欠陥検査に適した、熱ナノインプリント用蛍光レジスト組成物、並びに該組成物を利用した熱ナノインプリント用基板及びその製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の熱ナノインプリント用蛍光レジスト組成物は、蛍光物質(A)、熱可塑性高分子(B)および、前記(A)成分と(B)成分を共に溶解する溶剤(C)を含み、蛍光物質(A)の最大励起波長が350〜600nmかつ最大蛍光波長が400〜700nmであり、蛍光物質(A)の融点が200°C以上であることを特徴とする。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
蛍光物質(A)、熱可塑性高分子(B)および、前記(A)成分と(B)成分を共に溶解する溶剤(C)を含むナノインプリント用蛍光レジスト組成物であって、
蛍光物質(A)の最大励起波長が350〜600nmかつ最大蛍光波長が400〜700nmであり、蛍光物質(A)の融点が200°C以上であることを特徴とする熱ナノインプリント用蛍光レジスト組成物。
IPC (2件):
FI (3件):
B29C59/02 Z
, H01L21/30 502D
, H01L21/30 502R
Fターム (15件):
4F209AA36
, 4F209AA43
, 4F209AA44
, 4F209AD03
, 4F209AF01
, 4F209AG03
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AH73
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PN09
, 4F209PQ11
, 5F046AA28
, 5F146AA28
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