特許
J-GLOBAL ID：201103059769910482
磁気記録媒体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 興作 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-118298
公開番号（公開出願番号）：特開2000-311329
特許番号：特許第3328692号
出願日： 1999年04月26日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 硼素(B)及びシリコン(Si)を含有する非磁性物質、並びに鉄(Fe)、コバルト(Co)、及びニッケル(Ni)から選ばれる少なくとも一種の元素を含有してなる蒸発源から、物理蒸着法によって、所定の基板上に前記非磁性物質を構成する元素、並びに鉄(Fe)、コバルト(Co)、及びニッケル(Ni)から選ばれる前記少なくとも一種の元素がランダムに配列してなる薄膜を形成した後、この薄膜に対して250°C以上で熱処理を行い、前記非磁性物質からなるマトリックス中に、鉄(Fe)、コバルト(Co)、及びニッケル(Ni)から選ばれる前記少なくとも一種の元素を含む磁性微粒子を析出させることを特徴とする、グラニュラー型の磁気記録媒体の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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