特許
J-GLOBAL ID：201103059786333375
耐候性ホトクロミック薄膜の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
220100025 工業技術院四国工業技術研究所長 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-174582
公開番号（公開出願番号）：特開2001-005125
特許番号：特許第3148988号
出願日： 1999年06月21日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 アルキルアンモニウムイオンを層間支柱として有する層状粘土を無色透明薄膜に成形し、次いで超臨界状態の二酸化炭素中で上記の薄膜と有機ホトクロミック化合物とを接触させたのち、二酸化炭素を揮発、除去することを特徴とする耐候性ホトクロミック薄膜の製造方法。
IPC (2件)：
G03C 1/00 531
, C09K 9/02
G03C 1/00 531
, C09K 9/02 B
