特許

J-GLOBAL ID：201103059892570556

有機物含有水の処理方法及び装置

発明者： 井上 勇 ,  三木 康平 ,  佐藤 二朗
出願人/特許権者： 住友重機械エンバイロメント株式会社
代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  黒木 義樹
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-017510
公開番号（公開出願番号）：特開2001-327996
特許番号：特許第4467809号
出願日： 2001年01月25日
公開日（公表日）： 2001年11月27日
請求項（抜粋）：

【請求項1】有機物及び塩素イオンを含有する被処理水にオゾンを添加し、該被処理水に紫外線を照射することにより該有機物を分解処理する有機物含有水の処理方法であって、 前記紫外線が照射された後の被処理水のpH値を測定するpH測定工程と、 前記pH値の測定値に基づいて、前記紫外線が照射されているときの被処理水のpH値が酸性域の所定のpH値となるように、該紫外線が照射される前の被処理水、又は、該紫外線が照射されている被処理水に所定量のpH調整剤を添加するpH調整工程と、 を備えることを特徴とする有機物含有水の処理方法。

IPC (6件)：

C02F 9/00 ( 200 6.01) ,  A62D 3/00 ( 200 7.01) ,  C02F 1/20 ( 200 6.01) ,  C02F 1/32 ( 200 6.01) ,  C02F 1/66 ( 200 6.01) ,  C02F 1/78 ( 200 6.01)

FI (17件)：

C02F 9/00 504 E ,  C02F 9/00 504 B ,  C02F 9/00 502 N ,  C02F 9/00 502 R ,  C02F 9/00 502 Z ,  C02F 9/00 503 C ,  A62D 3/00 ,  C02F 1/20 A ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/66 510 K ,  C02F 1/66 521 B ,  C02F 1/66 522 A ,  C02F 1/66 530 G ,  C02F 1/66 530 L ,  C02F 1/66 540 H ,  C02F 1/66 540 Z ,  C02F 1/78 ZAB