特許

J-GLOBAL ID：201103059908461108

電気機械変換膜の製造方法、電気機械変換膜、電気機械変換膜群、電気機械変換素子の製造方法、電気機械変換素子、電気機械変換素子群、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、画像形成装置

発明者： 町田 治 ,  秋山 善一 ,  上田 恵司 ,  下福 光
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (2件)： 本多 章悟 ,  樺山 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-007431
公開番号（公開出願番号）：特開2011-146601
出願日： 2010年01月15日
公開日（公表日）： 2011年07月28日
要約：

【課題】所望の膜厚のパターン化した電気機械変換膜を製造する製造方法を提供する。【解決手段】第1の電極上に部分的に表面改質を行う工程と、第1の電極上にゾルゲル液をインクジェット方式により部分的に塗布する工程と、部分的に塗布したゾルゲル液を乾燥・熱分解・結晶化する工程と、前記のゾルゲル液をインクジェット方式により部分的に塗布する工程と部分的に塗布したゾルゲル液を乾燥・熱分解・結晶化する工程とを繰返し行い所望の膜厚を得る工程と、でゾルゲル法にて電気機械変換膜を形成する電気機械変換膜の製造方法において、第1の電極上にゾルゲル液をインクジェット方式により部分的に塗布する工程では、第1層目のゾルゲル液の塗布の着弾時の隣接ドットが重なるように配置され、第2層目以降のゾルゲル液の塗布量を第1層目のゾルゲル液の塗布量より少量とし、着弾時の隣接ドットが重ならないように配置されるようにパターン化した。【選択図】図7

請求項（抜粋）：

第1の電極上に部分的に表面改質を行う工程と、 前記第1の電極上にゾルゲル液をインクジェット方式により部分的に塗布する工程と、該部分的に塗布したゾルゲル液を乾燥・熱分解・結晶化する工程と、 前記のゾルゲル液をインクジェット方式により部分的に塗布する工程と該部分的に塗布したゾルゲル液を乾燥・熱分解・結晶化する工程とを繰返し行い所望の膜厚を得る工程と、 でゾルゲル法にて電気機械変換膜を形成する電気機械変換膜の製造方法において、 前記第1の電極上にゾルゲル液をインクジェット方式により部分的に塗布する工程では、第1層目のゾルゲル液の塗布の着弾時の隣接ドットが重なるように配置され、第2層目以降のゾルゲル液の塗布量を前記第1層目のゾルゲル液の塗布量より少量とし、着弾時の隣接ドットが重ならないように配置されるようにパターン化したことを特徴とする電気機械変換膜の製造方法。

IPC (7件)：

H01L 41/22 ,  H01L 41/09 ,  H01L 41/187 ,  H01L 41/24 ,  B41J 2/16 ,  B41J 2/045 ,  B41J 2/055

FI (6件)：

H01L41/22 Z ,  H01L41/08 J ,  H01L41/18 101D ,  H01L41/22 A ,  B41J3/04 103H ,  B41J3/04 103A

Fターム (7件)：

2C057AF93 ,  2C057AG44 ,  2C057AP14 ,  2C057AP31 ,  2C057AP57 ,  2C057BA04 ,  2C057BA14