特許
J-GLOBAL ID：201103060051733165
マスクパターン作成装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 研二 (外2名)
公報種別：特許公告
出願番号（国際出願番号）：特願平1-113357
公開番号（公開出願番号）：特開平2-292674
出願日： 1989年05月02日
公開日（公表日）： 1990年12月04日
請求項（抜粋）：
【請求項1】集積回路製造のために使用するマスクパターンを作成するためにCAD装置によって作成されたCAD用標準フォーマットで表現されたマスクパターン作成用データファイルを受け入れ、ユーザ作成プログラムによりその修正を行うマスクパターン作成装置において、すでに作成されたマスクパターン作成用データファイルを記憶する手段と、マスクパターン作成用データファイルの特定及び作成内容を指定を行う手段と、ユーザ作成プログラムを実行することでマスクパターン作成用データファイルに対して修正処理を行う修正処理手段と、を有し、前記修正処理手段は、マスクパターン作成用データファイルに直接アクセスし修正を行う際に用いるダイレクトアクセスライブラリと、ユーザ作成プログラムがダイレクトアクセスライブラリを利用する際に使用するユーザ解放プログラミングルーチンと、を格納する記憶部を有することを特徴とするマスクパターン作成装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
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