特許

J-GLOBAL ID：201103060314536041

熱処理装置

発明者： 谷山 智志 ,  小林 正幸
出願人/特許権者： 株式会社日立国際電気
代理人 (1件)： 三好 祥二
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-097497
公開番号（公開出願番号）：特開2001-280848
特許番号：特許第4036598号
出願日： 2000年03月31日
公開日（公表日）： 2001年10月10日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ヒータユニットが炉収納部に収納され、前記ヒータユニットの上部に排気ダクトが設けられ、該排気ダクトに排気導出部が接続され、前記排気ダクトは前記炉収納部から水平方向に延びる上端カバー部に支持される熱処理装置に於いて、前記排気ダクトはダクト固定機構を介して前記上端カバー部に固定され、前記ヒータユニットの上端に固着された天井板を介して前記ヒータユニットに載設され、前記天井板と前記排気ダクトとの境界部で前記ヒータユニットと前記排気ダクトとが連結解除可能であり、解除状態で前記ヒータユニットが降下可能に構成したことを特徴とする熱処理装置。

IPC (3件)：

F27D 17/00 ( 200 6.01) ,  F27B 5/06 ( 200 6.01) ,  H01L 21/22 ( 200 6.01)

FI (3件)：

F27D 17/00 105 G ,  F27B 5/06 ,  H01L 21/22 511 S

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 縦型炉
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-210394   出願人：国際電気株式会社
• 特開平4-222386
  
• 縦型炉及び温度制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-284783   出願人：富士通株式会社