特許

J-GLOBAL ID：201103060479957793

戻り光除去方法と装置

発明者： 山崎 和則
出願人/特許権者： 住友重機械工業株式会社
代理人 (1件)： 井上 義雄 (外1名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-159890
公開番号（公開出願番号）：特開2000-343257
特許番号：特許第3363835号
出願日： 1999年06月07日
公開日（公表日）： 2000年12月12日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 レーザ光によって照明されたマスクの像をワーク上に投影することによってワークの加工を行うレーザ加工装置であって、前記マスクの入射面側に配置されるとともに当該マスクに対して所定角度を成す反射面を有する反射部材によって、前記レーザ光が前記マスクから逆進することを阻止するレーザ加工装置。

IPC (3件)：

B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  H01L 21/268

FI (3件)：

B23K 26/00 Q ,  B23K 26/06 Z ,  H01L 21/268 G