電子ビ-ム露光方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：滝本智之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-040863
公開番号（公開出願番号）：特開平2-220426
特許番号：特許第2512131号
出願日： 1989年02月21日
公開日（公表日）： 1990年09月03日
請求項（抜粋）：

【請求項1】非照射部を線状の照射部で囲んだ2次元の周期パタンを電子ビームの散乱長よりもはるかに大きな寸法で構成したブロックとし、そのブロックを照射パタンとし、前記照射部の線幅が電子ビーム露光における後方散乱長の長さよりも小さいものを用いて、非照射部あるいは照射部の寸法の異なる複数個の照射パタンをそれぞれ複数個の異なる照射量を用いて露光し、現像後、ポジ型レジストにおいては、非照射部の中心のレジストが除去される最小照射量を臨界照射量として、前記非照射部あるいは照射部の寸法の異なる各照射パタンに対して臨界照射量を求めることにより電子ビームの散乱強度分布を求めることを特徴とする電子ビーム露光方法。

IPC (1件)：