純水製造システム

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：國弘安俊
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-165722
公開番号（公開出願番号）：特開2011-020029
出願日： 2009年07月14日
公開日（公表日）： 2011年02月03日
要約：

【課題】純水装置の初期起動時から純水を純水タンクに連続供給し、これにより常に高純度の純水を外部機器に給水することができる純水製造システムを得る。【解決手段】純水装置を駆動させた後(S1)、循環ポンプが停止していることを確認し(S2)、純水の純水タンクへの供給を開始する。純水タンクの水位が所定上限水位Hに上昇するまでは循環ポンプを停止させた状態で純水タンクには純水装置からの純水を供給し続け、所定上限水位Hまで上昇したときは、循環ポンプを駆動させ(S3→S4)、純水タンク内の純水の一部を被処理水タンクに還流させて純水タンクの水位を低下させる。水位が所定下限水位L以下にまで低下すると、循環ポンプを停止し(S5→S2)、その後上述した処理を繰り返す。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

純水を生成する少なくとも一つ以上の純水装置と、該純水装置で生成された純水を貯留する純水タンクと、該純水タンクの水位を検出する水位検出手段と、前記純水装置で生成された純水を系内に循環させる循環手段と、前記水位検出手段により検出される水位に応じて前記循環手段を制御し、前記純水装置で生成された前記純水を前記純水タンクに連続供給する連続供給手段とを有していることを特徴とする純水製造システム。

IPC (6件)：

C02F 1/00 , C02F 1/44 , B01D 61/02 , C02F 1/469 , C02F 1/42 , B01D 61/48

FI (8件)：

C02F1/00 D , C02F1/00 V , C02F1/00 S , C02F1/44 H , B01D61/02 , C02F1/46 103 , C02F1/42 B , B01D61/48

Fターム (44件)：

4D006GA03 , 4D006GA04 , 4D006GA17 , 4D006HA61 , 4D006JA30C , 4D006JA42Z , 4D006JA43Z , 4D006JA44Z , 4D006JA58Z , 4D006JA67Z , 4D006KA01 , 4D006KA52 , 4D006KA55 , 4D006KA57 , 4D006KA63 , 4D006KB11 , 4D006KE02Q , 4D006KE21P , 4D006KE23Q , 4D006KE30Q , 4D006MA13 , 4D006MA14 , 4D006PA01 , 4D006PB05 , 4D006PC02 , 4D025AA01 , 4D025AB19 , 4D025BA08 , 4D025BB09 , 4D025CA07 , 4D025CA10 , 4D025DA05 , 4D025DA06 , 4D061DA02 , 4D061DB13 , 4D061EA09 , 4D061EB01 , 4D061EB04 , 4D061EB13 , 4D061EB19 , 4D061FA08 , 4D061FA09 , 4D061GA04 , 4D061GC02

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