特許
J-GLOBAL ID:201103061211052816

レーザイオン給源から材料層を生成する方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 浅村 皓 (外3名)
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平1-505048
特許番号:特許第2973407号
出願日: 1989年04月17日
請求項(抜粋):
【請求項1】ダイヤモンド状炭素層を生成するための装置であって、第1の進行経路に沿ってレーザビームを指向するように選択的に動作し得るレーザ手段と、室と、前記室内に真空を生じさせる手段と、炭素イオン及びダイヤモンド状炭素層を生成するためグラファイトを含むターゲット材料と、概ね前記第1の進行経路に沿って位置されて前記室内に前記ターゲット材料を保持する手段と、前記ターゲット材料の一部分を投射しそしてイオン化するようにレーザビームをターゲット位置に集束するために前記第1の進行経路に沿って配置された集束手段と、前記室内に配置されそして前記室内で第2の進行経路に沿ってターゲット位置から前記炭素イオンを運動させるための電位に帯電し得る分離手段と、前記室内に第2の進行経路に沿って配置されたサブストレートであってその表面上に前記炭素イオンを収集してそこに前記ダイヤモンド状炭素層を生じさせるものを支持する手段と、を有するダイヤモンド状炭素層を生成するための装置。
IPC (1件):
C23C 14/32
FI (1件):
C23C 14/32 A
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開昭60-243270
  • 特開昭60-194067
  • 特開昭60-177178
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