不斉エポキシ化触媒及び光学活性エポキシドの製造方法

発明者：
出願人/特許権者： ,
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-073996
公開番号（公開出願番号）：特開2001-253876
特許番号：特許第4525993号
出願日： 2000年03月13日
公開日（公表日）： 2001年09月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】(A)光学活性ビナフトール、(B)ランタントリイソプロポキシド、並びに(C)トリ(4-フルオロフェニル)フォスフィンオキサイド、トリ(4-クロロフェニル)フォスフィンオキサイド又はトリ(4-トリフルオロメチルフェニル)フォスフィンオキサイドからなるエノン類の不斉エポキシ化触媒。

IPC (5件)：

B01J 31/24 ( 200 6.01) , C07D 301/19 ( 200 6.01) , C07D 303/32 ( 200 6.01) , C07B 53/00 ( 200 6.01) , C07B 61/00 ( 200 6.01)

FI (5件)：

B01J 31/24 Z , C07D 301/19 , C07D 303/32 , C07B 53/00 B , C07B 61/00 300

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