イオン発生装置、イオン照射装置及びフィラメント

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：竹村壽 , 外川英明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-269854
公開番号（公開出願番号）：特開2001-093431
特許番号：特許第3615096号
出願日： 1999年09月24日
公開日（公表日）： 2001年04月06日
請求項（抜粋）：

【請求項1】箱状に形成された容器と、前記容器内にプラズマを発生しうるガスを導入するガス導入手段と、前記容器内に配置されたフィラメントから放出された熱電子により前記ガスのプラズマを発生させることにより所望のイオンを発生させうるプラズマ発生手段と、前記容器内に生じたイオンを前記容器外に導出するイオン導出手段とを有し、前記フィラメントが高融点金属を主体とし希土類元素ないし希土類酸化物を含有し、前記高融点金属がタングステンであり、前記希土類元素がランタン、セリウム、イットリウムの何れかであり、前記希土類酸化物がランタン、イットリウムの何れかの酸化物であることを特徴とするイオン発生装置。

IPC (3件)：