特許
J-GLOBAL ID：201103061567104373
ウエハプローバおよびウエハプローバに使用されるセラミック基板
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
安富 康男 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-248581
公開番号（公開出願番号）：特開2001-127124
特許番号：特許第3320705号
出願日： 2000年08月18日
公開日（公表日）： 2001年05月11日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 セラミック基板の表面には導体層が形成され、前記セラミック基板の内部には、ガード電極および/またはグランド電極が形成されていることを特徴とするウエハプローバ。
IPC (1件)：
FI (1件)：
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