特許
J-GLOBAL ID:201103061931492902

局部洗浄装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 松尾 憲一郎
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-291259
公開番号(公開出願番号):特開2001-132043
特許番号:特許第3752923号
出願日: 1999年10月13日
公開日(公表日): 2001年05月15日
請求項(抜粋):
【請求項1】 装置各部に配置された電装部品を制御する制御回路を構成する制御基板と、この制御基板を収納するポッティングケースとからなる制御ユニットを、下ケースと上ケースを連設させた装置本体に内蔵した局部洗浄装置において、 便座及び便蓋を支持する便座・便蓋支持部が中央に隆起状に設けられると共に、この便座・便蓋支持部の左右及び前方に連続して下方に傾斜する傾斜部を、前記上ケースの前方に備えてなり、前記ポッティングケースを前記左右の傾斜から前記前方の傾斜にかけて前記傾斜部の下方に配置すると共に、前記ポッティングケースと前記傾斜部との間に、ほぼ同一寸法からなる隙間を設けたことを特徴とする局部洗浄装置。
IPC (1件):
E03D 9/08 ( 200 6.01)
FI (1件):
E03D 9/08 A
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 衛生洗浄装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-119602   出願人:東陶機器株式会社, 小糸工業株式会社
  • 便座装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-136158   出願人:東陶機器株式会社

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