特許

J-GLOBAL ID：201103061943068910

非晶質HfNi合金系水素分離・解離用膜、その製造方法及びその活性化処理方法

発明者： 原 重樹 ,  榊 啓二 ,  伊藤 直次
出願人/特許権者： 工業技術院長 ,  原 重樹
代理人 (1件)： 220000390 工業技術院物質工学工業技術研究所長
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-123448
特許番号：特許第3066529号
出願日： 1999年04月30日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 非晶質HfNi合金からなる水素分離・解離用膜。

IPC (11件)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22 ,  B22D 11/06 360 ,  C01B 3/56 ,  C22C 1/00 ,  C22C 45/04 ,  C22F 1/10 ,  C22F 1/00 ,  C22F 1/00 608 ,  C22F 1/00 622 ,  C22F 1/00 641

FI (11件)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22 ,  B22D 11/06 360 B ,  C01B 3/56 Z ,  C22C 1/00 N ,  C22C 45/04 Z ,  C22F 1/10 A ,  C22F 1/00 B ,  C22F 1/00 608 ,  C22F 1/00 622 ,  C22F 1/00 641 A