特許
J-GLOBAL ID:201103061953285285
半導体製造方法及びその装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
三好 祥二
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-137709
公開番号(公開出願番号):特開2000-332094
特許番号:特許第4144970号
出願日: 1999年05月18日
公開日(公表日): 2000年11月30日
請求項(抜粋):
【請求項1】 複数の収納ボックスを有するカセット棚を具備した半導体製造装置に於いて、前記各収納ボックスについて属性を定義付し、カセットの属性と収納ボックスの属性とが一致する位置にカセットを収納すると共に前記収納ボックスの少なくとも1つについては収納ボックスの属性を可変とし、カセットの投入時に投入される該カセットの属性に合わせて前記収納ボックスの属性を変更し、前記カセットの払出し完了後に前記収納ボックスの属性が前記カセット投入前の属性に復帰されることを特徴とする半導体製造方法。
IPC (3件):
H01L 21/673 ( 200 6.01)
, H01L 21/677 ( 200 6.01)
, B65D 85/86 ( 200 6.01)
FI (3件):
H01L 21/68 T
, H01L 21/68 A
, B65D 85/38 R
引用特許:
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