特許
J-GLOBAL ID:201103061983877560
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 鈴木 三義
, 五十嵐 光永
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-270085
公開番号(公開出願番号):特開2011-085878
出願日: 2009年11月27日
公開日(公表日): 2011年04月28日
要約:
【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供すること。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、 酸発生剤成分(B)は、一般式(I)[式中、R5はカルボニル基、エステル結合、又はスルホニル基を有する有機基を表し、Qは2価の連結基である。]で表される基をカチオン部に有する化合物からなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。[化1]【選択図】なし
請求項(抜粋):
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、
前記酸発生剤成分(B)は、下記一般式(I)で表される基をカチオン部に有する化合物からなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。
IPC (6件):
G03F 7/004
, C07C 309/06
, G03F 7/039
, H01L 21/027
, C07C 381/12
, C08F 20/10
FI (7件):
G03F7/004 503A
, C07C309/06
, G03F7/004 501
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
, C07C381/12
, C08F20/10
Fターム (53件):
2H125AF18P
, 2H125AF35P
, 2H125AF36P
, 2H125AF38P
, 2H125AF39P
, 2H125AF45P
, 2H125AH17
, 2H125AH19
, 2H125AH23
, 2H125AH29
, 2H125AJ12X
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ69X
, 2H125AN02P
, 2H125AN21P
, 2H125AN39P
, 2H125AN42P
, 2H125AN54P
, 2H125AN63P
, 2H125BA01P
, 2H125BA02P
, 2H125BA26P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 2H125FA03
, 4H006AA03
, 4H006AB76
, 4H006AB92
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100AL08S
, 4J100AL08T
, 4J100BA03Q
, 4J100BA11P
, 4J100BA15S
, 4J100BA58S
, 4J100BC03T
, 4J100BC09Q
, 4J100BC09R
, 4J100BC53P
, 4J100BC84S
, 4J100CA03
, 4J100CA05
, 4J100CA06
, 4J100DA01
, 4J100DA04
, 4J100FA03
, 4J100FA19
, 4J100JA38
引用特許:
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