特許
J-GLOBAL ID：201103062478512014
流体を噴射するための装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
矢野 敏雄
, 山崎 利臣
, 久野 琢也
, アインゼル・フェリックス=ラインハルト
, ラインハルト・アインゼル
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-354682
公開番号（公開出願番号）：特開2001-173541
特許番号：特許第4608077号
出願日： 2000年11月21日
公開日（公表日）： 2001年06月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 高圧下にある流体を噴射するための装置であって、ポンプエレメント(3)と、ポンププランジャ(4)とが設けられており、該ポンププランジャ(4)が、圧力室(5)を仕切っており、該圧力室(5)からポンププランジャ(4)の移動時に流体が、第1および第2の高圧管路部分(19,23)を介して噴射ノズル(14)にまで圧送可能であり、さらに磁石(7)により操作可能な切換弁(6)が設けられており、該切換弁(6)が、第1の制御縁(16)と第2の制御縁(17)とを備えた制御エレメント(8)を有しており、該制御エレメント(8)の第1の制御縁(16)が、磁石側の蓄力器(10)によって、低圧側の蓄力器(11)により調節可能な当接部(9)に抗して第1の座面へもたらされるようになっており、制御エレメント(8)のこの位置で圧力室(5)に対する噴射ノズル(14)の接続は閉じられていて、低圧室(18)に対する噴射ノズル(14)の接続は開かれており、前記磁石(7)の接続・遮断可能な作動力によって、制御エレメント(8)の第2の制御縁(17)が、磁石側の蓄力器(10)の力に抗して第2の座面に当付け可能であり、制御エレメント(8)のこの位置で圧力室(5)に対する噴射ノズル(14)の接続は開かれていて、低圧室(18)に対する噴射ノズル(14)の接続は閉じられていることを特徴とする、流体を噴射するための装置。
IPC (3件)：
F02M 59/46 ( 200 6.01)
, F02M 59/34 ( 200 6.01)
, F02M 59/36 ( 200 6.01)
F02M 59/46 Q
, F02M 59/46 M
, F02M 59/34
, F02M 59/36
