特許

J-GLOBAL ID：201103062887643651

透明導電性基板の製造方法

発明者： 上川 直文 ,  菅原 健一朗 ,  西岡 宏司 ,  中田 邦彦
出願人/特許権者： 国立大学法人 千葉大学 ,  住友化学株式会社
代理人 (1件)： 深井 敏和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-011819
公開番号（公開出願番号）：特開2011-150918
出願日： 2010年01月22日
公開日（公表日）： 2011年08月04日
要約：

【課題】低コストかつ簡便な透明導電膜の製造方法である塗布法によって透明性と導電性を兼ね備えた透明導電膜を安定的に得ることができる透明導電膜形成用塗布液を用いて、透明導電性基板を製造する方法、およびこれにより得られた透明導電性基板を提供する。 【解決手段】チタン化合物、ニオブ化合物およびアルコールを混合して形成されるハロアルコキシチタンおよびハロアルコキシニオブを含む前駆体溶液を、透明基材上に塗布し、加熱処理後、還元雰囲気にてアニール処理し、ニオブがドープされた酸化チタン系透明導電膜を形成して酸化チタン系透明導電性基板を製造する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ハロアルコキシチタンおよびハロアルコキシニオブを含む前駆体溶液を、透明基材上に塗布し、加熱処理後、還元雰囲気にてアニール処理し、ニオブがドープされた酸化チタン系透明導電膜を形成することを特徴とする酸化チタン系透明導電性基板の製造方法。

IPC (2件)：

H01B 13/00 ,  H01B 5/14

FI (2件)：

H01B13/00 503B ,  H01B5/14 A

Fターム (8件)：

5G307FA01 ,  5G307FB01 ,  5G307FC09 ,  5G307FC10 ,  5G323BA03 ,  5G323BB01 ,  5G323BC01 ,  5G323BC03