特許
J-GLOBAL ID：201103063027805553
複合酸化物系薄膜の作製方法及びその装置並びにそれにより作製した複合酸化物系薄膜。
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
平山 一幸
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-266132
公開番号（公開出願番号）：特開2002-068894
特許番号：特許第3579690号
出願日： 2000年09月01日
公開日（公表日）： 2002年03月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】複合酸化物系薄膜の作製方法において、化学的自己形成効果を有する原子を含み、かつ、複合酸化物系薄膜の基本単位格子を構成する各々の相の原子組成に対応した原子組成を有する複数のスパッタ用ターゲットと、 化学的自己形成効果を有するガスを含むスパッタ雰囲気ガスと、を用い、さらに、複合酸化物系薄膜を積層する基板に配向結晶基板を用い、この基板の温度を表面拡散温度に保ち、上記ガス濃度を制御し、上記複数のスパッタ用ターゲットを時間を制御して交互にスパッタすることにより上記複合酸化物系薄膜の組成及び膜厚を物理的に制御すると共に、上記基本単位格子の各々の相をエピタキシー成長することを特徴とする、複合酸化物系薄膜の作製方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C30B 29/22 501 M
, C23C 14/08 ZAA K
