特許
J-GLOBAL ID:201103063083989080
活物質層形成方法、当該方法により形成される活物質層、及び、当該方法により形成される活物質層を備えるリチウム二次電池
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
岸本 達人
, 星野 哲郎
, 山下 昭彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-030129
公開番号(公開出願番号):特開2011-165605
出願日: 2010年02月15日
公開日(公表日): 2011年08月25日
要約:
【課題】所望の層間距離を有する活物質層を形成する方法、当該方法により形成される活物質層、及び、当該方法により形成される活物質層を備えるリチウム二次電池を提供する。【解決手段】岩塩型層状構造を有する活物質層を形成する方法であって、岩塩型層状構造を有する活物質原料を準備する工程、所定の結晶面を有する基板を準備する工程、並びに、パルスレーザーデポジション法を用いて、パルスレーザーを前記活物質原料に照射することにより、前記基板の前記結晶面上に、前記活物質原料の格子定数と異なる格子定数を有する活物質結晶を含有する活物質層を形成する工程を有することを特徴とする、活物質層形成方法。【選択図】図3
請求項(抜粋):
岩塩型層状構造を有する活物質層を形成する方法であって、
岩塩型層状構造を有する活物質原料を準備する工程、
所定の結晶面を有する基板を準備する工程、並びに、
パルスレーザーデポジション法を用いて、パルスレーザーを前記活物質原料に照射することにより、前記基板の前記結晶面上に、前記活物質原料の格子定数と異なる格子定数を有する活物質結晶を含有する活物質層を形成する工程を有することを特徴とする、活物質層形成方法。
IPC (5件):
H01M 4/139
, H01M 4/13
, H01M 4/131
, H01M 4/525
, H01M 4/66
FI (6件):
H01M4/02 108
, H01M4/02 101
, H01M4/02 102
, H01M4/02 109
, H01M4/52 102
, H01M4/66 A
Fターム (21件):
5H017AA03
, 5H017AS10
, 5H017CC03
, 5H017EE01
, 5H017HH00
, 5H050AA02
, 5H050BA16
, 5H050BA17
, 5H050CA08
, 5H050CB01
, 5H050CB02
, 5H050CB05
, 5H050CB07
, 5H050CB08
, 5H050CB11
, 5H050CB12
, 5H050DA02
, 5H050DA04
, 5H050FA19
, 5H050GA21
, 5H050GA24
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