特許
J-GLOBAL ID:201103063558142729

インク受容層付記録用シートおよびインク受容層形成用塗布液

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴木 俊一郎
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-363261
公開番号(公開出願番号):特開2003-159867
特許番号:特許第3945626号
出願日: 2001年11月28日
公開日(公表日): 2003年06月03日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基材シート上に、 下記一般式(1)で表される有機ケイ素化合物を加水分解・重縮合して得られたものであり、粒子内にケイ素に直接結合した有機基を含有している有機基含有シリカ粒子を 含むインク受容層が形成されたことを特徴とするインク受容層付記録用シート。 RnSiX4-n (1) 〔ただし、Rは互いに同一であっても異なっていてもよい炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基、X:炭素数1〜4のアルコキシ基、シラノール基、ハロゲン、水素、nは1〜3の整数〕
IPC (4件):
B41M 5/00 ( 200 6.01) ,  B41M 5/50 ( 200 6.01) ,  B41M 5/52 ( 200 6.01) ,  B41J 2/01 ( 200 6.01)
FI (2件):
B41M 5/00 B ,  B41J 3/04 101 Y
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (1件)

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