特許
J-GLOBAL ID：201103063907617144
高屈折率材料の製造方法および当該材料と高分子材料との複合体
出願人/特許権者：
国立大学法人信州大学
国立大学法人信州大学 について
代理人 (2件)： 長谷川 洋 , 中谷 智子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-235176
公開番号（公開出願番号）：特開2011-080007
出願日： 2009年10月09日
公開日（公表日）： 2011年04月21日
要約：
【課題】 安価で、100°Cより低い温度で、屈折率が高く、かつ光の吸収の少ない酸化チタン薄膜を得る。 【解決手段】 本発明は、波長633nmの光における屈折率が1.90以上で、かつ波長350nmの光における消衰係数が0.05以下の酸化チタンを主成分とする高屈折率材料を製造する方法であって、少なくとも、チタニウムアルコキシド、有機溶媒、ヒドラジン誘導体塩および水を混和して反応させる反応工程と、上記反応工程によって得られる溶液を基板に供給して膜を形成する膜形成工程と、上記膜形成工程後に60°C以上100°C未満の温度にて加熱する加熱工程と、を含む高屈折率材料の製造方法である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
波長633nmの光における屈折率が1.90以上で、かつ波長350nmの光における消衰係数が0.05以下の酸化チタンを主成分とする高屈折率材料を製造する方法であって、
少なくとも、チタニウムアルコキシド、有機溶媒、ヒドラジン誘導体塩および水を混和して反応させる反応工程と、
上記反応工程によって得られる溶液を基板に供給して膜を形成する膜形成工程と、
上記膜形成工程後に60°C以上100°C未満の温度にて加熱する加熱工程と、
を含むことを特徴とする高屈折率材料の製造方法。
IPC (5件)：
FI (5件)：
Fターム (14件)：
4G047CA02
, 4G047CB06
, 4G047CC03
, 4G047CD02
, 4J038AA011
, 4J038DM021
, 4J038HA166
, 4J038JB17
, 4J038KA06
, 4J038KA20
, 4J038MA06
, 4J038NA19
, 4J038PA19
, 4J038PB08
引用特許：
出願人引用 (4件)
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耐摺動性塗膜、液状コーティング材料および積層体
公報種別：公開公報 出願番号：特願2004-160713 出願人：宇部日東化成株式会社 -
薄膜形成方法及び薄膜形成体
公報種別：公開公報 出願番号：特願2003-390911 出願人：コニカミノルタホールディングス株式会社 -
特許第4208051号
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