特許

J-GLOBAL ID：201103063956400371

露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法

発明者： 石関 将寛
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-238658
公開番号（公開出願番号）：特開2011-086777
出願日： 2009年10月15日
公開日（公表日）： 2011年04月28日
要約：

【課題】スループットの低下を抑えながら、デフォーカスを低減することができる露光装置を提供する。【解決手段】マスクのパターンを基板に投影する投影光学系を備えた露光装置であって、基板を保持するチャックを駆動する駆動部と、基板上の複数のショット領域のそれぞれの領域内において複数の計測点で高さを計測する計測部と、前記計測部による複数の計測点での高さの計測を制御すると共に、前記駆動部による前記チャックの駆動を制御する制御部と、を有する露光装置を提供する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

マスクのパターンを基板に投影する投影光学系を備えた露光装置であって、 基板を保持するチャックを駆動する駆動部と、 基板上の複数のショット領域のそれぞれの領域内において複数の計測点で高さを計測する計測部と、 前記計測部による複数の計測点での高さの計測を制御すると共に、前記駆動部による前記チャックの駆動を制御する制御部と、 を有し、 前記制御部は、 連続して露光すべき複数の基板のうち先頭からn枚目(nは自然数)までの基板を露光する場合には、前記n枚目の基板上の複数のショット領域のうち第1の数のショット領域の領域内における複数の計測点の高さを計測するように前記計測部を制御し、前記計測部で計測された複数の計測点の高さからそのショット領域の高さを決定して、前記n枚目の基板上の複数のショット領域のそれぞれを前記投影光学系の像面に位置させるように前記駆動部を制御し、 前記複数の基板のうちn+1枚目以降の基板を露光する場合には、前記n+1枚目以降の基板上の複数のショット領域のうち前記第1の数よりも少ない第2の数のショット領域の領域内における複数の計測点の高さを計測するように前記計測部を制御し、前記n枚目の基板上の複数のショット領域のうち前記n+1枚目以降の基板上の前記第2の数のショット領域に相当するショット領域における複数の計測点の高さから第1の平面を求め、前記n+1枚目以降の基板上の前記第2の数のショット領域における複数の計測点の高さから第2の平面を求めて前記複数のショット領域のそれぞれについて前記第1の平面と前記第2の平面との前記基板の高さ方向のずれ量を算出し、前記計測部で計測された複数の計測点の高さから決定された前記n枚目の基板上の複数のショット領域のそれぞれの高さに前記基板の高さ方向のずれ量を加えた高さに基づいて、前記n+1枚目以降の基板上の複数のショット領域のそれぞれを前記投影光学系の像面に位置させるように前記駆動部を制御することを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (3件)：

H01L21/30 516A ,  H01L21/30 518 ,  G03F7/20 521

Fターム (20件)：

5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC03 ,  5F046CC05 ,  5F046CC08 ,  5F046CC11 ,  5F046CC13 ,  5F046DA07 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F146BA05 ,  5F146CC01 ,  5F146CC03 ,  5F146CC05 ,  5F146CC08 ,  5F146CC11 ,  5F146CC13 ,  5F146DA07 ,  5F146DA14 ,  5F146DB05