特許
J-GLOBAL ID：201103064030388609
ナノインプリント用モールドの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
米田 潤三
, 皿田 秀夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-170849
公開番号（公開出願番号）：特開2011-029248
出願日： 2009年07月22日
公開日（公表日）： 2011年02月10日
要約：
【課題】被加工物の意図しない部位への露光を確実に抑制できるナノインプリント用モールドを簡便に製造するための製造方法を提供する。【解決手段】基材加工工程にて、凸構造部4に所望の開口6aをもつ遮光性エッチングマスク6が配設され、この開口に対応した凹部5が形成されている基材を作製し、レジスト層形成工程にて、ポジ型感光性レジスト膜21を形成し、開口6aの開口幅よりも大きな波長の光を基材2側から照射して遮光性エッチングマスク6をマスクとしてポジ型感光性レジスト膜21を露光し、現像してレジスト層22を形成し、リフトオフ工程にて、基材に遮光膜8を形成し、その後、レジスト層22を剥離して、凸構造部4の側面および凸構造部4の周囲の基部3のみに遮光膜8を残し、除去工程にて、凸構造部から遮光性エッチングマスクを除去する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
基部と、該基部の一方の面から突出するとともに凹部が形成された凸構造部と、を備える基材を有し、前記凸構造部の周囲の前記基部は遮光膜で被覆され、さらに、前記凸構造部の側面は遮光膜で被覆されているナノインプリント用モールドの製造方法において、
基部と、該基部の一方の面から突出した凸構造部とを備え、該凸構造部上に所望の開口をもつ遮光性エッチングマスクが位置し、該開口に対応するように凹部が前記凸構造部に形成されている基材を作製する基材加工工程と、
前記遮光性エッチングマスクを被覆するように前記基材にポジ型感光性レジスト膜を形成し、前記開口の開口幅よりも大きな波長の光を前記基材側から照射して前記遮光性エッチングマスクをマスクとして前記ポジ型感光性レジスト膜を露光し、その後、現像して前記遮光性エッチングマスク上にレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、
該レジスト層を被覆するように前記基材に遮光膜を形成し、その後、前記レジスト層を剥離するとともに、レジスト層上の前記遮光膜を除去することにより、前記凸構造部の側面および前記基部のみに前記遮光膜を残すリフトオフ工程と、
前記遮光膜よりも前記遮光性エッチングマスクに対する選択エッチング性をもつエッチャントを用いて、前記凸構造部から前記遮光性エッチングマスクを除去する除去工程と、を有することを特徴としたナノインプリント用モールドの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 502D
, B29C59/02 B
4F209AA44
, 4F209AF01
, 4F209AG03
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AJ03
, 4F209AJ06
, 4F209AJ09
, 4F209AR12
, 4F209PA01
, 4F209PB01
, 4F209PN09
, 4F209PQ11
, 5F046AA28
