特許

J-GLOBAL ID：201103064268366107

高圧ガス容器の内面処理方法

発明者： 桝田 佳吾 ,  石田 一成 ,  坂本 年彦 ,  宇都宮 淳 ,  山本 彰
出願人/特許権者： 三井化学株式会社 ,  有限会社エムシィシィ工業
代理人 (1件)： 最上 正太郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-062658
公開番号（公開出願番号）：特開2000-257795
特許番号：特許第3116038号
出願日： 1999年03月10日
公開日（公表日）： 2000年09月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】高圧ガス容器の内面を研磨処理した後、塩基性洗浄液又は塩基性洗浄液に酸化剤を含む溶液で洗浄することを特徴とする高純度ガス充填用高圧ガス容器の内面処理方法。

IPC (3件)：

C23G 1/08 ,  C23G 1/10 ,  F17C 1/10

FI (3件)：

C23G 1/08 ,  C23G 1/10 ,  F17C 1/10