特許

J-GLOBAL ID：201103064355371001

磁束制御交流システムにおいて磁束中点を補正する方法

発明者： ニエメラ、マルク
出願人/特許権者： エービービー オサケ ユキチュア
代理人 (3件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  林 鉐三
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-538424
特許番号：特許第3729734号
出願日： 1999年03月24日
請求項（抜粋）：

【請求項1】固定子磁束予測値(Ψs,est)を決定するステップと、固定子電流(is)の大きさを決定するステップと、を備えた磁束制御交流システムで磁束中点を補正する方法において、基準変数(k)を得るために固定子磁束予測値(Ψs,est)と固定子電流(is)とのスカラー積を形成するステップと、基準変数(k)の低周波成分(kfilt)を得るために基準変数(k)を低域濾波するステップと、差変数(e)を得るために基準変数(k)から低周波成分(kfilt)を減算するステップと、差変数(e)に固定子磁束の成分(Ψs,x,est、Ψs,y,est)および補正係数(KΨcorr)を乗算することによって固定子磁束予測値(Ψs,est)の補正項成分(Ψs,x,corr、Ψs,y,corr)を決定するステップと、固定子磁束予測値の成分(Ψs,x,est、Ψs,y,est)および補正項成分(Ψs,x,corr、Ψs,y,corr)に基づいて補正された中点を有する固定子磁束(Ψs,fin)を形成するステップと、を具備することを特徴とする方法。

IPC (1件)：

H02P 21/00

FI (1件)：

H02P 5/408 A

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開昭63-245293
  

審査官引用 (1件)

• 特開昭63-245293