特許

J-GLOBAL ID：201103064564262058

電気化学的防汚方法及び装置

発明者： 小澤 欣一 ,  高柳 博一 ,  和気 仁志 ,  高橋 弘道 ,  瀧本 利宏
出願人/特許権者： ぺんてる株式会社
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-333674
公開番号（公開出願番号）：特開2002-136972
特許番号：特許第4182636号
出願日： 2000年10月31日
公開日（公表日）： 2002年05月14日
請求項（抜粋）：

【請求項1】導電性基材に正電位を印加する工程と、負電位を印加する工程と、前記正電位を印加する工程と負電位を印加する工程との間にあって、前記正電位から負電位へスロープ状に電位を変化させる工程とを含む電気化学的防汚方法。

IPC (3件)：

C02F 1/48 ( 200 6.01) ,  A01N 43/78 ( 200 6.01) ,  A01N 59/16 ( 200 6.01)

FI (3件)：

C02F 1/48 B ,  A01N 43/78 101 ,  A01N 59/16 Z