特許

J-GLOBAL ID：201103064613001230

プラズマ処理装置

発明者： 今福 光祐
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-073433
公開番号（公開出願番号）：特開平2-224235
特許番号：特許第2665973号
出願日： 1989年03月24日
公開日（公表日）： 1990年09月06日
請求項（抜粋）：

【請求項1】気密容器内にプラズマを発生させて処理する装置において、上記プラズマを発生させるプラズマ発生機構を上記気密容器内で移動させる可動機構と、この可動機構へのグリス補給用の導電性シート材により封止された透孔を有し、上記可動機構を電磁シールドする如く設けられた電磁シールドとを具備してなることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/205

FI (2件)：

H01L 21/302 B ,  H01L 21/205