特許
J-GLOBAL ID:201103064774752120

逆浸透膜自動洗浄機構付逆浸透装置、および該装置を使用した純水の製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 川島 利和
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-330320
公開番号(公開出願番号):特開2000-262868
特許番号:特許第3859412号
出願日: 1999年10月18日
公開日(公表日): 2000年09月26日
請求項(抜粋):
【請求項1】 原水を逆浸透装置に供給する開閉弁を有する原水負荷ライン(a)、原水負荷ラインの逆浸透装置の上流側に設けた原水または純水を高圧にするために使用する装置(以下、液体加圧化手段とも言う)(b)、逆浸透膜を通過した純水と逆浸透膜を素通りした濃縮水に原水を分離する逆浸透膜を有する逆浸透装置(c)、一端が逆浸透装置に接続して他端が前記原水負荷ラインの開閉弁の下流側で原水負荷ラインに接続して再循環ループラインを形成する素通りライン(濃縮水ライン)(d)、前記素通りライン(濃縮水ライン)から分岐して形成された開閉弁を有する排水ライン(e)、前記原水負荷ラインと素通りライン(濃縮水ライン)とで形成され、かつ前記排水ラインが分岐した位置より下流側の素通りラインに開閉弁を有する再循環ループライン(f)、逆浸透装置で製造された純水の貯留容器(g)、一端が純水タンクに接続して他端が原水負荷ラインの開閉弁の下流側で原水負荷ラインに接続した開閉弁を有する純水還流ライン(h)および前記純水ラインから分岐する初期抜水ライン(j)を少なくとも有し、かつ前記素通りライン(d)、排水ライン(e)および純水還流ライン(h)に設けた開閉弁が並列に設けた複数個で構成されていることを特徴とする自動洗浄機構付き逆浸透装置。
IPC (4件):
B01D 61/08 ( 200 6.01) ,  B01D 65/02 ( 200 6.01) ,  B01D 65/08 ( 200 6.01) ,  C02F 1/44 ( 200 6.01)
FI (4件):
B01D 61/08 ,  B01D 65/02 530 ,  B01D 65/08 ,  C02F 1/44 H
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 特開平2-157086
  • 特開昭61-136404
  • 特開平3-161088
審査官引用 (4件)
  • 特開平2-157086
  • 特開昭61-136404
  • 特開平3-161088
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