特許

J-GLOBAL ID：201103064805727120

レジスト組成物

発明者： 平岡 崇志 ,  市川 幸司
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-122502
公開番号（公開出願番号）：特開2011-248177
出願日： 2010年05月28日
公開日（公表日）： 2011年12月08日
要約：

【課題】優れた解像度及びマスクエラーファクター(MEF)を有するパターンを形成することができるレジスト組成物等を提供する。【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤と、式(I)で表される塩とを含むレジスト組成物。[R1〜R5は水素原子、炭素数1〜12の炭化水素基又は炭素数2〜13のアシル基を表す。R6及びR7は水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基を表す。R8〜R10は水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基を表すか、R8及びR9が互いに結合して環を形成し、該炭化水素基に含まれる-CH2-は-O-、-S-又は-NR11-で置き換わっていてもよい。R11は水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基を表すか、R8と結合して環を形成する。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤と、式(I)で表される塩とを含むレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/18

FI (4件)：

G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/18

Fターム (43件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF29P ,  2H125AF38P ,  2H125AF41P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA12P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100BA03R ,  4J100BA11S ,  4J100BA11T ,  4J100BA15T ,  4J100BC04Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC53S ,  4J100BC53T ,  4J100CA03 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA03 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38