特許
J-GLOBAL ID:201103064992944619

カルボキシル基含有ポリフマレート、製造方法および用途

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 酒井 一 ,  蔵合 正博
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-140775
公開番号(公開出願番号):特開2002-332314
特許番号:特許第4691826号
出願日: 2001年05月10日
公開日(公表日): 2002年11月22日
請求項(抜粋):
【請求項1】(A)下記式(1)で表されるフマル酸ジエステルに基づく構成単位と(B)下記式(2)で表される繰り返し構成単位、下記式(5)で表される繰り返し構成単位および下記式(6)で表される繰り返し構成単位からなるブロックカルボン酸に基づく構成単位群から選ばれる1種以上の構成単位とからなる共重合体前駆体を脱ブロック反応することにより得られるカルボキシル基を有するポリフマレート。 (ただし、式中のX1およびX2は同一でも異なっていてもよく、炭素数3〜8の分岐アルキル基もしくは置換分岐アルキル基、または炭素数4〜8のシクロアルキル基もしくは置換シクロアルキル基を表す。) (ただし、式中のY1およびY2は同一でも異なっていてもよく、炭素数3〜8の分岐アルキル基もしくは置換分岐アルキル基、または炭素数4〜8のシクロアルキル基もしくは置換シクロアルキル基を示し、分子中のY1またはY2の少なくとも一方は下記式(3)で表される基を示す。) (ただし、式(3)中のR1、R2およびR3はそれぞれ水素原子もしくは炭素数1〜18の有機基であり、R4は炭素数1〜18の有機基であり、そしてZ1は酸素原子またはイオウ原子である。) (ただし、式中のY1およびY2は前記式(2)と同じものを表す。) (ただし、式中のY3は下記式(3)で表される。またDはベンジル基であり、nは0または1であり、Eは水素原子またはメチル基を表す。) (ただし、式(3)中のR1、R2、R3、R4およびZ1は前記と同じものを表す。)
IPC (3件):
C08F 222/14 ( 200 6.01) ,  C08F 8/12 ( 200 6.01) ,  G03F 7/033 ( 200 6.01)
FI (3件):
C08F 222/14 ,  C08F 8/12 ,  G03F 7/033
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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