特許

J-GLOBAL ID：201103065399015926

洗浄物の乾燥方法及び乾燥装置

発明者： 久保 和樹 ,  山口 謙介 ,  岡野 勝一
出願人/特許権者： 株式会社カイジョー
代理人 (2件)： 羽切 正治 ,  笹川 拓
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-191863
公開番号（公開出願番号）：特開2003-007671
特許番号：特許第3980296号
出願日： 2001年06月25日
公開日（公表日）： 2003年01月10日
請求項（抜粋）：

【請求項1】薬液が供給されていない槽内に洗浄物を搬送手段により支持台上に搬送する工程と、 前記槽内に薬液を供給して前記洗浄物を薬液中に浸漬してエッチング処理を行うエッチング処理工程と、 前記エッチング処理工程完了後に純水(DIW)を前記槽内に供給して前記薬液を徐々に純水(DIW)に置換してリンスするリンス処理工程と、 前記リンス処理工程終了後に前記純水(DIW)に代えて還元性添加純水を用いて前記洗浄物をリンスするリンス処理工程と、 前記槽内の純水(DIW)に洗浄物が浸漬された状態で前記槽内に有機溶剤ミストを供給して有機溶剤ミストの雰囲気を形成すると共に前記純水(DIW)の液面に有機溶剤ミストで生成された十分な厚さの層を形成する工程と、 前記槽内に不活性ガスを供給して密閉空間内に不活性ガス雰囲気を形成する工程と、 前記洗浄物の表面上の還元性添加純水が前記有機溶剤ミストで生成された層で有機溶剤に置換された後、不活性ガスを供給して前記有機溶剤を気化し乾燥する工程とを有すること を特徴とする洗浄物の乾燥方法。

IPC (4件)：

H01L 21/304 ( 200 6.01) ,  C23F 1/24 ( 200 6.01) ,  F26B 21/14 ( 200 6.01) ,  H01L 21/308 ( 200 6.01)

FI (4件)：

H01L 21/304 651 J ,  C23F 1/24 ,  F26B 21/14 ,  H01L 21/308 G