特許
J-GLOBAL ID：201103065940548576
基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-276158
公開番号（公開出願番号）：特開2002-093773
特許番号：特許第3719918号
出願日： 2000年09月12日
公開日（公表日）： 2002年03月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 純水と薬液を混合部で混合して生成される処理液により基板を処理する基板処理装置において、 前記混合部に純水を供給する純水供給路と、 前記混合部に薬液を供給する薬液供給路と、 前記薬液供給路における薬液の流量を調節する薬液流量調節手段と、 前記薬液供給路における薬液の流量を検出流量値として検出する薬液流量検出手段と、 純水に関連した液体の温度を主温度として測定する主温度測定手段と、 予め設定されている処理時における純水に関連した液体の標準温度と前記主温度測定手段により測定された主温度との偏差である主偏差と、予め求めておいた、主偏差に起因して変動する基板の処理量と主偏差との対応データと、予め求めてある基板の処理量と薬液流量との関係式とに基づいて前記薬液流量調節手段の薬液流量目標値を補正薬液流量目標値に補正し、前記薬液流量検出手段からの検出流量値が前記補正薬液流量目標値に一致するように前記薬液流量調節手段を調節する制御手段と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/306
, H01L 21/304
H01L 21/306 J
, H01L 21/304 648 G
