特許
J-GLOBAL ID:201103065943383233

ドーピングしたシリカを光ファイバプリフォームの外側に堆積させる方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 川口 義雄 ,  小野 誠 ,  渡邉 千尋 ,  金山 賢教 ,  大崎 勝真 ,  坪倉 道明
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-541133
特許番号:特許第4198764号
出願日: 1999年02月11日
請求項(抜粋):
【請求項1】シリカを主に含み、かつシリカベースの外周部分(22)を含むバーで構成された1次プリフォーム(24)上にシリカ粒子を堆積させることによって、少なくとも1つのシリカベースの外側堆積層(23)を形成するステップを含む、光ファイバプリフォーム(3)を製造する方法であって、 外側堆積層(23)の大部分にわたって、CaF2、MgF2、AlF3、B2O3、およびAl2O3で形成されるグループから選択した少なくとも1つの化合物をシリカ粒子に添加することによって、外側堆積層(23)の粘性を、1次プリフォーム(24)の外周部分(22)の粘性とほぼ等しくなるように調節することと、1次プリフォーム(24)のシリカベースの外周部分が、超高純度シリカの管であることとを特徴とする、方法。
IPC (3件):
C03B 37/018 ( 200 6.01) ,  C03C 13/04 ( 200 6.01) ,  G02B 6/00 ( 200 6.01)
FI (3件):
C03B 37/018 C ,  C03C 13/04 ,  G02B 6/00 356 A
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (2件)

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