特許
J-GLOBAL ID：201103066124736050
薄膜形成装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 正次
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-312381
公開番号（公開出願番号）：特開平3-173765
特許番号：特許第2820471号
出願日： 1989年12月01日
公開日（公表日）： 1991年07月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】真空容器内に、複数の蒸発源と基板支持部材を対向設置して構成した薄膜形成装置において、薄膜形成後に基板支持部材近傍の空間に残留する蒸発物を除去する為の真空容器外部からの動力によって真空容器内を移動できる付着板が、前記基板支持部材に離接できるように設置してあることを特徴とした薄膜形成装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/00 B
, H01L 21/203 Z
