特許
J-GLOBAL ID:201103066342658789

塩素バイパス排気のSOx低減方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 曾我 道治 ,  池谷 豊 ,  古川 秀利 ,  鈴木 憲七 ,  長谷 正久
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-031053
公開番号(公開出願番号):特開2000-226241
特許番号:特許第4388615号
出願日: 1999年02月09日
公開日(公表日): 2000年08月15日
請求項(抜粋):
【請求項1】 セメント製造設備のキルンから排出されるガスの一部を抽気すると同時にこれを塩素化合物の凝固点以下にまで冷却し、冷却した抽気ガスから粗粉を分離してキルン系内へ戻すと共に抽気ガスをさらに冷却した後に抽気ガスからバイパスダストを回収する塩素バイパスシステムにおいて、 バイパスダストを回収した後の抽気ガスをセメント製造設備のNSPキルンの仮焼炉における温度800〜1200°Cの領域に導入することにより抽気ガス中のSOxを低減することを特徴とする塩素バイパス排気のSOx低減方法。
IPC (3件):
C04B 7/60 ( 200 6.01) ,  B01D 53/50 ( 200 6.01) ,  B01D 53/81 ( 200 6.01)
FI (2件):
C04B 7/60 ZAB ,  B01D 53/34 124 Z
引用特許:
審査官引用 (6件)
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