特許
J-GLOBAL ID：201103066368863542
光酸発生剤及びそれを含有するフォトレジスト組成物、並びに該組成物を用いたパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西村 征生
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-224661
公開番号（公開出願番号）：特開2002-040636
特許番号：特許第3386041号
出願日： 2000年07月25日
公開日（公表日）： 2002年02月06日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 一般式(1)で表されるスルホニウム塩化合物から成ることを特徴とする光酸発生剤。;;化1::(1)(但し、Rはアルキレン基又はオキソ基を有するアルキレン基を表し、R3、R4、R5は水素原子又は直鎖状、分岐状、単環式、多環式あるいは橋かけ環式のアルキル基を表す)。
IPC (10件)：
G03F 7/004 503
, C07C 381/12
, C08K 5/36
, C08L 101/00
, G03F 7/038 601
, G03F 7/039 601
, G03F 7/20 502
, H01L 21/027
, C07D 333/46
, C07D 335/02
G03F 7/004 503 A
, C07C 381/12
, C08K 5/36
, C08L 101/00
, G03F 7/038 601
, G03F 7/039 601
, G03F 7/20 502
, C07D 333/46
, C07D 335/02
, H01L 21/30 502 R
