特許
J-GLOBAL ID:201103066768736434

部分メッキ付リードフレームの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:特許公告
出願番号(国際出願番号):特願平1-315868
公開番号(公開出願番号):特開平3-177059
出願日: 1989年12月05日
公開日(公表日): 1991年08月01日
請求項(抜粋):
【請求項1】リードフレーム素材(1)の表面の全面に銅メッキ(2)を施し、次に、表面の部分メッキ必要箇所(3)とその周辺部(8)だけが露出すべくシールして、露出箇所に金または銀の部分メッキ(4)を施し、次に、表裏の全面にフレームパターン形成用のフォトレジスト膜(5a)を形成し、次に、表裏両面からフレームパターン形成用の露光をして現像し、次に、先の部分メッキ(4)の中で、部分メッキ不要箇所(6)へ付着のメッキを剥離させ、次に、パターンエッチングしてフレームパターンを形成し、次に、残ったフォトレジスト膜(5a)を剥離するとともに、露出した銅メッキ(2)を剥離するようにした、部分メッキ付リードフレームの製造方法。
IPC (1件):
H01L 23/50 A

前のページに戻る