特許
J-GLOBAL ID：201103066810538346
気相成長装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
佐藤 一雄
, 永井 浩之
, 岡田 淳平
, 名塚 聡
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-275043
公開番号（公開出願番号）：特開2001-098379
特許番号：特許第4260307号
出願日： 1999年09月28日
公開日（公表日）： 2001年04月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】被処理基板を受け入れる円形凹部が上面に形成され、前記円形凹部の底面に前記被処理基板よりも小径な円形開口部が形成された基板保持部材と、前記基板保持部材が着脱自在に取り付けられる回転可能な回転円筒部材と、を備え、前記基板保持部材の底面周縁部には複数の嵌合凸部が前記回転円筒部材側に向けて突設されており、前記回転円筒部材の端面周縁部には前記複数の嵌合凸部が可及的密に嵌合される複数の嵌合凹部が形成されていることを特徴とする気相成長装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
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