光配線層の製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-249375
公開番号（公開出願番号）：特開2002-062449
特許番号：特許第4380038号
出願日： 2000年08月21日
公開日（公表日）： 2002年02月28日
請求項（抜粋）：

【請求項1】少なくとも基板上に第1のクラッドとコア層を形成する工程と、コア層を光配線形状に加工する工程と、第2のクラッドで覆う工程からなる光配線層の製造方法であって、前記コア層を前記光配線形状に加工する工程は、前記コア層上にすそを有する光配線形状のマスクパターンを形成する工程と、異方性エッチングにより前記マスクパターンを除去し、前記コア層を前記光配線形状に形成し、該コア層側面とつながる前記第1のクラッドのすそを形成する工程、からなることを特徴とする光配線層の製造方法。

IPC (1件)：