特許

J-GLOBAL ID：201103067202297928

グラフェンの製造方法、その製造方法により製造されたグラフェン及びそのグラフェンからなる導電性薄膜、透明電極、放熱素子または発熱素子

発明者： ソン・ヨンイル ,  アン・ジョンヒョン ,  リー・ヨンビン ,  ホン・ビョンヒ
出願人/特許権者： 三星テクウィン株式会社 ,  成均館大学産学協力団
代理人 (1件)： 大島 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-206795
公開番号（公開出願番号）：特開2011-063506
出願日： 2010年09月15日
公開日（公表日）： 2011年03月31日
要約：

【課題】グラフェンの製造方法、その製造方法によって製造されたグラフェン、そのグラフェンからなる導電性薄膜、透明電極、放熱素子または発熱素子を提供する。【解決手段】本発明のグラフェンの製造方法は、(a)ベース部材110と、前記ベース部材上に形成された親水性酸化層120と、前記酸化層上に形成された疎水性金属触媒層130と、前記金属触媒層上に形成されたグラフェン層140とを含むグラフェン部材を準備する段階と、(b)前記グラフェン部材に水を提供する段階と、(c)前記酸化層から前記金属触媒層を分離する段階と、(d)エッチング法を用いて前記金属触媒層を除去する段階とを含む。前記グラフェン上には転写部材150が配置される。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

グラフェンの製造方法であって、 (a)ベース部材と、前記ベース部材上に形成された親水性の酸化層と、前記酸化層上に形成された疎水性の金属触媒層と、前記金属触媒層上に形成されたグラフェン層とを含むグラフェン部材を準備する段階と、 (b)前記グラフェン部材に水を提供する段階と、 (c)前記酸化層から前記金属触媒層を分離する段階と、 (d)エッチング法を用いて前記金属触媒層を除去する段階と を含むグラフェンの製造方法。

IPC (4件)：

C01B 31/04 ,  H05B 3/14 ,  H01B 5/14 ,  H01B 13/00

FI (4件)：

C01B31/04 101Z ,  H05B3/14 F ,  H01B5/14 A ,  H01B13/00 503B

Fターム (29件)：

3K092PP20 ,  3K092QB14 ,  3K092VV40 ,  4G146AA02 ,  4G146AB07 ,  4G146AD19 ,  4G146AD22 ,  4G146AD23 ,  4G146BA12 ,  4G146BA48 ,  4G146BB23 ,  4G146BC08 ,  4G146BC43 ,  4G146BC44 ,  4G146CB06 ,  4G146CB12 ,  4G146CB15 ,  4G146CB19 ,  4G146CB21 ,  4G146CB29 ,  4G146CB32 ,  5G307FA01 ,  5G307FA02 ,  5G307FB04 ,  5G307FC10 ,  5G323AA03 ,  5G323BA05 ,  5G323BB04 ,  5G323BB06

引用特許：

審査官引用 (2件)

• グラフェンシート及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-277065   出願人：三星電子株式会社
• 単結晶グラフェンシートおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-318418   出願人：三星電子株式会社