特許
J-GLOBAL ID：201103067485668552
非接触レーザーキャプチャ顕微解剖のための設計
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 秀策
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-587166
特許番号：特許第4520642号
出願日： 1999年12月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 試験片からのレーザーキャプチャ顕微解剖のプロセスであって、該プロセスは、以下:
選択的活性化可能な層を提供する工程であって、活性化の際に、該選択的活性化可能な層が、該選択的活性化可能な層の表面に対して実質的に垂直にとられた、第1間隔を超える容量膨張の末端を有する該容量膨張を引き起こす、工程;
該試験片に曝される該選択的活性化可能な層上に、調製された表面を配置する工程であって、該調製された表面が、該試験片の少なくとも1つの成分と親和性特異的結合を有する、工程;
該第1間隔より小さな、限られた分離において、該試験片の上にある該選択的活性化可能な層を配置する、工程;および
該容量膨張の末端において、該試験片の部分を局所的に接触するために、少なくとも該第1間隔まで容量膨張を引き起こすために、該選択的活性化可能な層を選択的に活性化し、該調製された表面を該試験片へ接触させ、そして活性化可能な層上の、該調製された表面によって定義される特異的表面親和性を有する、該標的された試験片の成分と親和性特異的結合を形成する、工程、を包含する、プロセス。
IPC (6件)：
G01N 1/28 ( 200 6.01)
, B25J 7/00 ( 200 6.01)
, B81C 99/00 ( 201 0.01)
, G01N 1/04 ( 200 6.01)
, G02B 21/06 ( 200 6.01)
, G02B 21/32 ( 200 6.01)
G01N 1/28 F
, B25J 7/00
, B81C 5/00
, G01N 1/04 G
, G02B 21/06
, G02B 21/32
