特許
J-GLOBAL ID：201103068058919907
熱処理装置および熱処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高山 宏志
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-360293
公開番号（公開出願番号）：特開2002-164334
特許番号：特許第3741604号
出願日： 2000年11月27日
公開日（公表日）： 2002年06月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板に所定の熱処理を施す熱処理装置であって、
基板を表面から所定距離だけ離間させて載置可能なホットプレートと、
前記ホットプレートに載置された基板を収納するチャンバと、
前記ホットプレートにおいて前記基板を前記ホットプレートに載置したときに前記基板の下側に相当する位置に形成されたガス採取口と、
前記ガス採取口から採取されたチャンバ内のガスの酸素濃度を測定する酸素濃度測定手段と、
を具備し、
前記基板の熱処理と並行して前記酸素濃度測定手段による酸素濃度測定が可能であることを特徴とする熱処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/31 ( 200 6.01)
, H01L 21/316 ( 200 6.01)
H01L 21/31 A
, H01L 21/316 G
