特許
J-GLOBAL ID:201103068308728703
マイクロレンズの製造方法および製造装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
舘野 千惠子
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-051855
公開番号(公開出願番号):特開2001-242304
特許番号:特許第4160229号
出願日: 2000年02月28日
公開日(公表日): 2001年09月07日
請求項(抜粋):
【請求項1】 レーザビームを透過する入射窓を有する反応セル内に基板を設置し、
前記基板が設置された反応セル内に所定の反応性ガスを充填し、
光源からレーザビームを発射し、
前記光源からのレーザビームを広幅ビームに拡大し、
前記広幅ビームを、複数の円形の光通過部と該光通過部以外の箇所に設けられた光反射部とを有するスクリーン原版で複数のビームに分割し、
前記分割された複数のビームを反応セル内の前記基板上に縮小投影し、
前記基板上に縮小投影された複数のビームの各照射面に前記反応性ガスの気相成長によりレンズ膜を生成することを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
IPC (6件):
G02B 3/00 ( 200 6.01)
, C23C 16/04 ( 200 6.01)
, C23C 16/48 ( 200 6.01)
, H01L 27/14 ( 200 6.01)
, H04N 5/335 ( 200 6.01)
, B29D 11/00 ( 200 6.01)
FI (6件):
G02B 3/00 A
, C23C 16/04
, C23C 16/48
, H01L 27/14 D
, H04N 5/335 V
, B29D 11/00
引用特許:
出願人引用 (4件)
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特開平3-063601
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特開平4-063283
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レーザCVD法による薄膜形成方法および装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-333850
出願人:日本電気株式会社
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特開平2-248041
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審査官引用 (4件)