特許

J-GLOBAL ID：201103068490298093

プラズマ処理装置および処理方法

発明者： 鹿子嶋 昭 ,  山本 秀之 ,  幾原 祥二 ,  増田 俊夫 ,  橘内 浩之 ,  田中 潤一 ,  森岡 なつよ ,  玉置 研二
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (1件)： 鈴木 市郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-198830
公開番号（公開出願番号）：特開2003-017471
特許番号：特許第3708031号
出願日： 2001年06月29日
公開日（公表日）： 2003年01月17日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 真空処理室内に収容した試料に処理を施すプラズマ処理装置と、 該処理装置の処理中のプロセス量をモニタするセンサと、 該センサからのモニタ出力および予め実測した加工形状とモニタ出力を圧縮して生成した処理状態信号との相関関係の重回帰分析により求めた加工処理結果の予測式をもとに加工処理結果を推定する加工処理結果推定モデルと、 前記加工処理結果推定モデルの推定結果をもとに加工処理結果が加工寸法の目標値となるように処理条件の補正量を計算する最適レシピ計算モデルを備え、 該最適レシピ計算モデルが生成したレシピをもとに、該レシピに最も近いレシピを予め格納したレシピの中から選択してプラズマ処理を制御することを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 ,  B01J 19/08 ,  H05H 1/00

FI (3件)：

H01L 21/302 101 G ,  B01J 19/08 H ,  H05H 1/00 A

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 半導体製造方法及び製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-329275   出願人：ソニー株式会社
• 線幅度量衡を使用したパターン移動プロセス監視方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-257171   出願人：ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド